戰后半個世紀是現代科技高速發展的時期,人類經過半個世紀的努力,無論在農業、工業、醫藥、生物、宇宙探索、環境以及基本理論研究等方面,都取得了偉大的成就。材料的高純度、產品的高精度及高可靠性是這一時期科技發展的特點。超微細加工、裝配和測試,對諸如空氣潔凈、防微振、防電磁干擾、低噪聲以及對超純水、超純氣體等的嚴格要求,使由此產生的環境控制學得到了迅速發展。控制微振動即防微振,是環境控制的一個重要組成部分。防
微振的重要性體現在各行各業:例如感光化學工業,彩色膠片乳劑層14個涂層總厚度僅19μm,在涂布過程中由于微小的振動將使乳劑涂層厚薄不勻,在膠片上產生橫紋;在慣導技術方面,為了提高導彈的打擊精度,準確命中目標,需要對陀螺儀、加速度計及組合制導(衛星、導航、地形匹配及景物匹配)系統的精度提出高的要求,這種高精度慣導系統的調試和檢測,必須在極為寧靜的環境中進行;對于微電子工業,線寬0.1μm(4G DRAM)產品已進人市場,硅片加工中的光刻工序對微振動的控制要求極為嚴格;其他如精密機械加工、光學器件檢測、激光實驗、超薄金屬軋制以及理化實驗等都需要對微振動進行控制。
在集成電路的制造過程中,被加工的是單一的硅片,從原材料到產品需要進行幾百道物理、化學加工工序,其間如果遭受污染,就會引起產品大量報廢,例如64 MDRAV,在制造過程中,空氣中塵埃粒徑應被控制在0.035μm以下;環境微振動值應控制在4.5X10-3mm/s以下,在光刻工序,很小的微振動會引起對位不準,影響產品的成品率。
為了滿足集成電路日益精細的加工要求,各國在微污染控制技術領域內投入了可觀的人力、物力進行系統研究,取得了大量科技成果,涌現了一批高科技產品,諸如超高效過濾器(過濾效率達99.9999%)的問世及ISO3級(0.1μm)潔凈室的建立;超純水及超純氣體的應用;隧道式潔凈室及微環境系統潔凈室的出現和使用,大大降低了污染。在防微振領域,從廠房結構形式、動力設備布置及隔振措施到精密設備防微振措施等方面獨特的建樹,為集成電路生產提供了一個優良的環境。可以認為,當今微污染控制領域諸多科技成果的出現無不與集成電路生產的飛速發展有關。
集成電路工廠的前工序(硅片加工)對微環境控制最為嚴格。在防微振方面,要求工廠建造在遠離鐵路、機場、公路干線且綠化較好的地區,廠區總平面布置要求單建的動力站房與潔凈廠房之間留有足夠的距離。
我國對防微振的研究及工程實踐始于20世紀60年代初期,經歷了幾代人的努力,不僅建立和完善了防微振理論,開發了防微振用系列化隔振產品,還進行了大量的工程實踐,成功地解決了彩色膠片涂布、慣導系統測試、集成電路光刻工序、空間光學系統檢測、激光實驗、超薄金屬軋制、文物保護等方面的防微振同題,為我國現代化科技的發展做出了貢獻。
隨著科學技術的發展、進步,防微振技術必須不斷地探索、提高和深化,這將是歷史的必然。而解決好防微振技術,應重點考慮以下幾個方面。
微振動控制值的確定;
場地選擇及微振動測試與分析；
防微振工程設計程序；
防微振工程設計。